Eilmeldung
ARالاتحاد الألماني لكرة القدم يعلن التعاقد مع يورغن كلوب لتدريب المنتخب الوطنيARإيران تحذّر من مسؤولية الدول التي تدعم واشنطن في الهجماتARالأبيض السودانية تعاني نقصًا حادًا وتزايد العنف الجنسي وسط القتالARسحب 1.6 مليون عبوة بيض في أمريكا بسبب مخاوف السالمونيلاARترامب يحذر بكين وموسكو من تسليح إيران، ووفد عُماني في طهران لبحث الوضع في هرمزARتعديل وزاري في ألمانيا لتعزيز أداء الحكومة قبل الانتخابات الإقليميةARبريطانيا تؤكد جاهزية قواتها للتصدي لتهديدات الحرس الثوري الإيرانيARالجزائر: 159 حريقاً في الغابات والمحاصيل خلال 24 ساعةARالعراق يرفض تقرير نيويورك تايمز حول رفض إيران اتفاق وقف إطلاق النارARالكرملين: قائد الجيش الأوكراني الجديد سيحاسب على تصريحاته المتطرفةARالاتحاد الألماني لكرة القدم يعلن التعاقد مع يورغن كلوب لتدريب المنتخب الوطنيARإيران تحذّر من مسؤولية الدول التي تدعم واشنطن في الهجماتARالأبيض السودانية تعاني نقصًا حادًا وتزايد العنف الجنسي وسط القتالARسحب 1.6 مليون عبوة بيض في أمريكا بسبب مخاوف السالمونيلاARترامب يحذر بكين وموسكو من تسليح إيران، ووفد عُماني في طهران لبحث الوضع في هرمزARتعديل وزاري في ألمانيا لتعزيز أداء الحكومة قبل الانتخابات الإقليميةARبريطانيا تؤكد جاهزية قواتها للتصدي لتهديدات الحرس الثوري الإيرانيARالجزائر: 159 حريقاً في الغابات والمحاصيل خلال 24 ساعةARالعراق يرفض تقرير نيويورك تايمز حول رفض إيران اتفاق وقف إطلاق النارARالكرملين: قائد الجيش الأوكراني الجديد سيحاسب على تصريحاته المتطرفة
Newsgather
ZurückSamsung, 10nm Altı DRAM Teknolojisiyle Kapasiteyi %50 Artırmayı Hedefliyor
Samsung, 10nm Altı DRAM Teknolojisiyle Kapasiteyi %50 Artırmayı Hedefliyor
In Entwicklung
ShiftDelete26.4.2026Technik2 Min. LesezeitTürkiye

Samsung, 10nm Altı DRAM Teknolojisiyle Kapasiteyi %50 Artırmayı Hedefliyor

Yeni 4F hücre yapısı ve VCT teknolojisi ile 2028'de seri üretim planlanıyor

Auf einen Blick

  • Samsung, 10 nanometre altı üretim teknolojisi ve yeni 4F hücre yapısı kullanarak DRAM kapasitesini yüzde 50'ye kadar artırmayı hedefliyor.
  • Şirket, 10a olarak adlandırılan yeni nesil üretim sürecinde 4F kare hücre yapısı ve Dikey Kanal Transistörü (VCT) teknolojisini ilk kez uyguladı.
  • Bu teknik sayesinde 9.5-9.7nm arasına ölçeklenme bekleniyor.

KI-generierte Zusammenfassung

Schriftgröße

Samsung, 10nm altı üretim teknolojisi ve yeni 4F hücre yapısı ile DRAM kapasitesini yüzde 50'ye kadar artırmayı hedefliyor. Samsung, 10 nanometre altı üretim teknolojisini kullanan dünyanın ilk bağımsız DRAM modülünü başarıyla üretti. Şirket, bu yeni teknolojiyle birlikte bellek kapasitesinde önemli bir artış hedefliyor.

DRAM endüstrisi uzun süredir entegre devre üretimi için 10nm süreç teknolojisine güveniyordu. Samsung, 10a olarak adlandırılan yeni nesil üretim süreciyle bu sınırı aşarak tek haneli nanometre seviyesine inmeyi başardı.

Yeni 4F Hücre Yapısı ve VCT Teknolojisi

Samsung, 10a üretim sürecinde 4F kare hücre yapısı ve Dikey Kanal Transistörü (VCT) teknolojisini ilk kez uyguladı. Bu teknik yenilikler sayesinde üretim sürecinin 9.5 ile 9.7nm arasına ölçeklenmesi bekleniyor. Mevcut DRAM ürünlerinde kullanılan 6F yapısı, 3Fx2F ölçülerinde dikdörtgen bir blok oluşturuyor.

4F yapısına geçiş, 2Fx2F boyutlarında daha kare bir yapı sunarak hücre yoğunluğunu yüzde 30 ile yüzde 50 arasında artırıyor. Bu yapısal değişiklik, sadece daha yoğun bir kapasite sağlamakla kalmıyor, aynı zamanda enerji tasarrufuna da katkıda bulunuyor.

Samsung, bu yeni teknolojide silikon yerine İndiyum Galyum Çinko Oksit (IGZO) gibi yeni malzemelerden yararlanıyor. IGZO kullanımı, daralan hücrelerdeki sızıntıları azaltarak veri tutarlılığını korumaya yardımcı oluyor.

Şirket, 10a DRAM geliştirme sürecini bu yıl içinde tamamlamayı ve 2028 yılında seri üretime geçmeyi planlıyor.

Gelecek Nesil DRAM Yol Haritası

Samsung, 4F hücre yapısını 10a neslinde kullanmaya başlayacak ve bu teknolojiyi 10b ile 10c nesillerinde daha da geliştirecek. 10d DRAM nesli ile birlikte ise 2029-2030 yılları arasında 3D DRAM teknolojisine geçiş yapılması hedefleniyor.

Sektördeki diğer üreticiler farklı stratejiler izliyor. Micron gibi rakipler 4F planlarını beklemeye alarak doğrudan 3D DRAM teknolojisine odaklanmayı tercih ediyor. Çinli üreticiler ise gelişmiş litografi ekipmanlarına erişim kısıtlamaları nedeniyle 3D DRAM üretiminde zorluklarla karşılaşıyor.

Ancak 3D DRAM tasarımının 3D NAND yapısına benzerliği, bu üreticiler için bir umut kaynağı olarak görülüyor. Artan yapay zeka talebini karşılamak amacıyla 3D DRAM geliştirme çalışmaları dünya genelinde hız kazanıyor.

Samsung'un bu yeni teknolojisi, bellek pazarındaki rekabetin seyrini değiştirecek gibi görünüyor.

Verwandte Themen

This article was originally published by ShiftDelete.

Ähnliche Meldungen

Mehr zu diesem Themasamsung