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中國半導體發展受阻？蔡司執行長：EUV技術差距將限制中國製造能力在7奈米

美國等國限制EUV設備出口中國，蔡司執行長羅蒙德預計中國製造能力將限於7奈米。儘管中國可利用DUV多重曝光生產5奈米晶片，但此法成本高且不可行。另有報導指中國自主研發EUV原型機已啟動，但其發展仍面臨挑戰。