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Tecnología·21/7/2026Resumen IA
中國半導體發展受阻?蔡司執行長:EUV技術差距將限制中國製造能力在7奈米
美國等國限制EUV設備出口中國,蔡司執行長羅蒙德預計中國製造能力將限於7奈米。儘管中國可利用DUV多重曝光生產5奈米晶片,但此法成本高且不可行。另有報導指中國自主研發EUV原型機已啟動,但其發展仍面臨挑戰。
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美國等國限制EUV設備出口中國,蔡司執行長羅蒙德預計中國製造能力將限於7奈米。儘管中國可利用DUV多重曝光生產5奈米晶片,但此法成本高且不可行。另有報導指中國自主研發EUV原型機已啟動,但其發展仍面臨挑戰。

美國商務部長盧特尼克向ASML表達擔憂,懷疑其EUV設備可能已流入中國,違反出口管制。ASML否認此指控,強調其EUV設備尺寸巨大、產量有限,且需公司員工維護,並遵守所有出口管制法規。

傳動系統製造廠倉佑(1568)成功跨足半導體高階設備關鍵零組件領域,打入先進製程前端沉積與拋光設備零件供應鏈。5月營收佔比已達7%,帶動股價今日亮燈漲停,上漲至46.05元。

台達電的半導體設備標準通訊及控制應用軟體成功導入德國蔡司台灣據點,協助建立符合國際標準的設備通訊架構,加速設備開發與驗證流程,搶攻先進封裝帶動的設備升級商機。

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