Son Dakika
ARضربات إيرانية على قاعدة أمريكية في البحرين.. صفارات الإنذار وتصاعد الدخانFRIncendies en Gironde et Landes : 500 militaires supplémentaires déployés, 1,5 million de masques FFP2 acheminésDETrump kündigt Zölle gegen Mexiko und Kanada an - Kanada wehrt sich mit Alleingang bei BrückeneinweihungARميشيغان مركز المواجهة حول «آيباك» واعتباره عاملاً انتخابياً مباشراًINTLAustin FC Youth Academy Under Investigation for Alleged Sexual AbuseUSHurricane Fausto Strengthens to Category 2, Hawaii Impact Possible Next WeekRUВСУ атаковали Белгород: повреждены дома и магазины, пострадал мирный жительRUТри мирных жителя ранены в результате атаки украинского беспилотника в Горловке ДНРINDelhi Metro Closures, July 25: 18 Stations Closed Due to Cockroach Janta Party ProtestCN王毅与伊朗外长阿拉格齐会晤:坚定支持伊朗维护主权安全ARضربات إيرانية على قاعدة أمريكية في البحرين.. صفارات الإنذار وتصاعد الدخانFRIncendies en Gironde et Landes : 500 militaires supplémentaires déployés, 1,5 million de masques FFP2 acheminésDETrump kündigt Zölle gegen Mexiko und Kanada an - Kanada wehrt sich mit Alleingang bei BrückeneinweihungARميشيغان مركز المواجهة حول «آيباك» واعتباره عاملاً انتخابياً مباشراًINTLAustin FC Youth Academy Under Investigation for Alleged Sexual AbuseUSHurricane Fausto Strengthens to Category 2, Hawaii Impact Possible Next WeekRUВСУ атаковали Белгород: повреждены дома и магазины, пострадал мирный жительRUТри мирных жителя ранены в результате атаки украинского беспилотника в Горловке ДНРINDelhi Metro Closures, July 25: 18 Stations Closed Due to Cockroach Janta Party ProtestCN王毅与伊朗外长阿拉格齐会晤:坚定支持伊朗维护主权安全
Newsgather
GeriSamsung, 10nm Altı DRAM Teknolojisiyle Kapasiteyi %50 Artırmayı Hedefliyor
Samsung, 10nm Altı DRAM Teknolojisiyle Kapasiteyi %50 Artırmayı Hedefliyor
Gelişiyor
ShiftDelete26.04.2026Teknoloji2 dk okumaTürkiye

Samsung, 10nm Altı DRAM Teknolojisiyle Kapasiteyi %50 Artırmayı Hedefliyor

Yeni 4F hücre yapısı ve VCT teknolojisi ile 2028'de seri üretim planlanıyor

Hızlı Bakış

  • Samsung, 10 nanometre altı üretim teknolojisi ve yeni 4F hücre yapısı kullanarak DRAM kapasitesini yüzde 50'ye kadar artırmayı hedefliyor.
  • Şirket, 10a olarak adlandırılan yeni nesil üretim sürecinde 4F kare hücre yapısı ve Dikey Kanal Transistörü (VCT) teknolojisini ilk kez uyguladı.
  • Bu teknik sayesinde 9.5-9.7nm arasına ölçeklenme bekleniyor.

Yapay zekâ özeti

Yazı boyutu

Samsung, 10nm altı üretim teknolojisi ve yeni 4F hücre yapısı ile DRAM kapasitesini yüzde 50'ye kadar artırmayı hedefliyor. Samsung, 10 nanometre altı üretim teknolojisini kullanan dünyanın ilk bağımsız DRAM modülünü başarıyla üretti. Şirket, bu yeni teknolojiyle birlikte bellek kapasitesinde önemli bir artış hedefliyor.

DRAM endüstrisi uzun süredir entegre devre üretimi için 10nm süreç teknolojisine güveniyordu. Samsung, 10a olarak adlandırılan yeni nesil üretim süreciyle bu sınırı aşarak tek haneli nanometre seviyesine inmeyi başardı.

Yeni 4F Hücre Yapısı ve VCT Teknolojisi

Samsung, 10a üretim sürecinde 4F kare hücre yapısı ve Dikey Kanal Transistörü (VCT) teknolojisini ilk kez uyguladı. Bu teknik yenilikler sayesinde üretim sürecinin 9.5 ile 9.7nm arasına ölçeklenmesi bekleniyor. Mevcut DRAM ürünlerinde kullanılan 6F yapısı, 3Fx2F ölçülerinde dikdörtgen bir blok oluşturuyor.

4F yapısına geçiş, 2Fx2F boyutlarında daha kare bir yapı sunarak hücre yoğunluğunu yüzde 30 ile yüzde 50 arasında artırıyor. Bu yapısal değişiklik, sadece daha yoğun bir kapasite sağlamakla kalmıyor, aynı zamanda enerji tasarrufuna da katkıda bulunuyor.

Samsung, bu yeni teknolojide silikon yerine İndiyum Galyum Çinko Oksit (IGZO) gibi yeni malzemelerden yararlanıyor. IGZO kullanımı, daralan hücrelerdeki sızıntıları azaltarak veri tutarlılığını korumaya yardımcı oluyor.

Şirket, 10a DRAM geliştirme sürecini bu yıl içinde tamamlamayı ve 2028 yılında seri üretime geçmeyi planlıyor.

Gelecek Nesil DRAM Yol Haritası

Samsung, 4F hücre yapısını 10a neslinde kullanmaya başlayacak ve bu teknolojiyi 10b ile 10c nesillerinde daha da geliştirecek. 10d DRAM nesli ile birlikte ise 2029-2030 yılları arasında 3D DRAM teknolojisine geçiş yapılması hedefleniyor.

Sektördeki diğer üreticiler farklı stratejiler izliyor. Micron gibi rakipler 4F planlarını beklemeye alarak doğrudan 3D DRAM teknolojisine odaklanmayı tercih ediyor. Çinli üreticiler ise gelişmiş litografi ekipmanlarına erişim kısıtlamaları nedeniyle 3D DRAM üretiminde zorluklarla karşılaşıyor.

Ancak 3D DRAM tasarımının 3D NAND yapısına benzerliği, bu üreticiler için bir umut kaynağı olarak görülüyor. Artan yapay zeka talebini karşılamak amacıyla 3D DRAM geliştirme çalışmaları dünya genelinde hız kazanıyor.

Samsung'un bu yeni teknolojisi, bellek pazarındaki rekabetin seyrini değiştirecek gibi görünüyor.

İlgili Konular

Bu haber ilk olarak şurada yayınlandı: ShiftDelete.

İlgili Haberler

Bu konuda daha fazlasamsung