
Samsung, 10nm Altı DRAM Teknolojisiyle Kapasiteyi %50 Artırmayı Hedefliyor
Samsung, 10 nanometre altı üretim teknolojisi ve yeni 4F hücre yapısı kullanarak DRAM kapasitesini yüzde 50'ye kadar artırmayı hedefliyor. Şirket, 10a olarak adlandırılan yeni nesil üretim sürecinde 4F kare hücre yapısı ve Dikey Kanal Transistörü (VCT) teknolojisini ilk kez uyguladı. Bu teknik sayesinde 9.5-9.7nm arasına ölçeklenme bekleniyor. IGZO malzeme kullanımı da dahil edilen teknoloji, 2028'de seri üretime geçecek.

