全球4大半導體巨頭承諾採用艾司摩爾高數值孔徑EUV

台積電、三星電子與SK海力士8日皆承諾採用號稱「夢寐以求曝光設備」的艾司摩爾（ASML）高數值孔徑極紫外光機（High-NA EUV），以滿足日益成長的先進晶片需求。

該款EUV一台造價4億美元（123.74億台幣），目前為止，加上已從艾司摩爾接收該款機台的英特爾，全球4大晶片製造巨頭皆將導入該款機台，艾司摩爾技術長彼得斯（Marco Pieters）說，「這是採用高數值孔徑量產製造的重大一步，這是重要的里程碑」。

韓國BusinessKorea報導，全球兩大記憶體巨頭三星電子與SK海力士表示，將從2028年起，採用高數值孔徑EUV量產先進DRAM，同時攜手建立「12吋光罩」生態系，從而引領新一代半導體製程創新，邁向「下一個AI」時代。

CNBC報導，台積電表示，將使用艾斯摩爾機台製造先進晶片，並預計高數值孔徑EUV的使用量增加，因為AI應用需要日益複雜的電晶體架構。

投資人認為，高數值孔徑EUV的成功對於艾司摩爾未來的成長至關重要，其股價有望延續去年120%的漲勢。

巴克萊8日報告說，台積電、三星電子與SK海力士的宣佈「應可更清晰的展現採用前景，而這是爭論的關鍵」。該報告補充，此消息「令人振奮」。

三星、台積電與SK海力士加入英特爾行列，成為艾司摩爾的高數值孔徑EUV客戶。7月間，艾司摩爾說，英特爾正使用高數值孔徑EUV技術生產先進晶片。

艾司摩爾近期的財測並未給出銷售預期，但表示，2027年將增加30%的產能給EUV。巴克萊分析師說，「我們看到艾司摩爾面臨重要決定，亦即是否在近期已公佈的擴大目標上，進一步擴展EUV的產能，需求明顯強勁」。

台積電、三星、SK海力士與英特爾也加入艾司摩爾行列，共同推動下一代12吋光罩的研發，以取代目前的6吋光罩。艾司摩爾認為，此發展將提升高數值孔徑EUV的產能40%，同時可簡化設計程序。