
瑞銀分析師預測,中國不太可能在未來十年內快速提升半導體製造能力以開發可取代ASML極紫外光刻機的方案。報告指出中國目前處於類似2004年ASML的發展階段。儘管有報導稱中國科學家在深圳實驗室透過逆向工程打造EUV原型機,但ASML的EUV系統目前僅供應美國盟友,美國自2018年起對華實施出口管制。
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美國自2018年起要求荷蘭阻止ASML對中國出售極紫外光刻機,2022年拜登政府擴大出口管制,全面切斷中國取得先進半導體技術的管道。ASML的EUV系統目前僅供應美國盟友,包括台灣、南韓與日本。
圖為ASML生產的EUV設備。(路透)
〔財經頻道/綜合報導〕彭博1日報導,瑞銀集團分析師預測,中國不太可能在未來十年內快速提升其半導體製造能力,從而開發出可以取代艾斯摩爾(ASML Holding NV)尖端極紫外技術(EUV)的可行方案。
以Francois-Xavier Bouvignies為首的瑞銀分析師在一份報告中寫道:「他們(中國)似乎處於與2004年的ASML類似的階段」。
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去(2025)年12月,路透調查發現,在深圳一座高度戒備的實驗室內,中國科學家已打造出多年來華府極力阻擋的技術成果,即一台可望生產先進晶片的原型機。2名知情人士透露,中國透過逆向工程仿製ASML的極紫外曝光機(EUV)。
當時消息人士形容,這項計畫堪稱中國版「曼哈頓計畫」(Manhattan Project);「其目標是讓中國能由中國製造的設備生產先進晶片。中國希望把美國完全排除在供應鏈之外。」
目前,ASML的EUV系統僅供應給美國盟友,包括台灣、南韓與日本。美國自2018年開始要求荷蘭阻止ASML對中國出售極紫外;2022年拜登政府更擴大出口管制,全面切斷中國取得先進半導體技術的管道。
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中國在未來十年內將難以開發出可取代ASML EUV技術的可行方案。
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