美台韓晶片巨頭共組EPIC中心 對抗中國記憶體崛起
三星、SK海力士、台積電與英特爾等企業結盟,共同研發半導體製程技術以應對市場變局
Quick Look
應用材料公司在加州桑尼維爾啟動總投資50億美元的EPIC中心,匯集三星、SK海力士、台積電及英特爾等巨頭,旨在透過聯合研發應對半導體技術轉折,並回應中國半導體產業快速崛起帶來的市場競爭壓力。
AI-generated summary
Why It Matters
全球半導體產業正因中國長鑫儲存等廠商的技術突破與市佔率提升,面臨供應鏈與市場格局的劇烈變動。美國對先進技術的出口管制促使中國加速自主研發,引發西方企業結盟應對。
儘管中國在一年內率先實現DRAM量產的消息引發全球股市波動,但包括三星電子在內的全球半導體公司已結成研發聯盟,展開反擊。全球半導體設備公司應用材料(AMAT)斥資50億美元,攜手三星、SK海力士、台積電和英特爾,啟動矽谷EPIC中心計畫。
應用材料在美國加州桑尼維爾(Sunnyvale)揭幕EPIC中心,這是一個研發合作中心,匯集三星電子、SK 海力士和台灣台積電等主要半導體公司。特別是,三星電子與輝達和超微合作,發布先進的半導體產品,展現其作為頂級記憶體半導體公司的地位和實力。
EPIC中心總投資50億美元,是全球最大的半導體製程技術和製造設備聯合研發中心。包括三星電子、SK海力士、台積電、英特爾和美光在內的創始合作夥伴,以及博通、愛德萬測試、Screen、鎧俠和Besi等創新合作夥伴,還有史丹佛大學和加州大學柏克萊分校等主要大學,將在EPIC中心開展合作。
SK海力士總裁兼執行長郭魯正(Kwak No-Jung)表示,他打算透過與應用材料的合作,應對高頻寬記憶體 (HBM)、DRAM 和 NAND等領域的重大技術轉折點。
這種全方位的全球聯盟與中國追求超越半導體自主化、實現主導的目標密切相關。由於美國對先進技術的出口管制,中國與西方國家的技術交流實際上受到阻礙,但在政府的領導下,中國正積極突破這項限制,並迅速提升自身競爭力。
例如,當美國禁止荷蘭ASML公司向中國出口極紫外線(EUV)設備時,中國開發了自己的深紫外線(DUV)微影設備,以提高其在精細製程領域的競爭力。
因此,被譽為中國領先的DRAM廠商的中國長鑫儲存展現出顯著的成長勢頭,近期宣布量產下一代行動DRAM-LPDDR6。該公司還宣布,將在年內率先採用下一代DRAM架構(4F²)推出伺服器記憶體DDR5 RDIMM,而三星電子和SK海力士等廠商至今尚未公佈該架構的量產計劃。
根據Counterpoint Research等市場研究公司的數據顯示,今年第二季度,三星電子在全球DRAM市場和NAND市場分別佔39%和29.3%的份額,位居榜首。長鑫儲存的市佔率為10%,較去年同期(4%)成長超過一倍,進一步鞏固了其領先地位。
儘管業內人士對品質和其他因素提出了質疑,但市場仍然波動。 長鑫儲存量產的消息傳出後,美光科技、三星電子和SK海力士的股價均大幅下跌。
作為回應,市場領導者三星電子在2026年10月12日於美國加州聖荷西開幕的「開放運算計畫 (OCP) 全球高峰會」上公佈了與包括輝達和超微在內的全球人工智慧 (AI) 半導體產業的合作成果。三星介紹了其技術競爭力,包括代工工藝,例如2 奈米 GAA 晶圓、Groq 語言處理單元 (LPU) 晶圓和 Nvidia Groq 3 LPX 系統,以及與全球人工智慧公司合作的案例。
三星與超微合作推出了一項計劃,旨在利用「計算快速連接」(CXL)技術來突破現有系統的記憶體容量限制。該計畫意義重大,因為它展現了雙方合作的拓展,旨在驗證該技術在實際系統環境中的性能,並提升人工智慧基礎設施的運作效率。三星電子也展示了一項開放的合作策略,即與全球客戶和合作夥伴共同設計人工智慧系統,並在真實環境中驗證該技術。
What to Watch
AI outlook — possibilities, not facts
三星電子與SK海力士將加速CXL技術與下一代記憶體架構的量產部署。
Likely · Within months
Open Questions
- EPIC中心研發成果對市場份額的具體影響為何?
- 長鑫儲存的技術品質是否能持續獲得市場認可?




